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J-GLOBAL ID：200903003057330524
ガス分離体の製造方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
渡邉 一平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992268892
Publication number (International publication number)：1994114230
Application date： Oct. 07, 1992
Publication date： Apr. 26, 1994
Summary：
【要約】【構成】 多孔質基体と、この多孔質基体の表面に被覆しているガス分離膜とを有するガス分離体を設置し、このガス分離体で隔てた片側にある反応ガスと、このガス分離体で隔てたもう一方の片側にある他の反応ガスとをガス分離膜の貫通孔内で化学反応させ、この貫通孔内に固体生成物を蒸着せしめるガス分離体の製造方法。【効果】 多孔質基体及びこの多孔質基体の表面に被覆しているガス分離膜を有するガス分離体を本発明に係る方法で処理すると、ガス分離膜内に存在する貫通孔を減縮、封鎖することができる。従って、処理後のガス分離体を用いてガス分離をするとき、原料ガスがそのまま貫通孔を通って精製ガス中へ入り込むことを防止できる。
Claim (excerpt)：
多孔質基体と、該多孔質基体の表面に被覆しているガス分離膜とを有するガス分離体を設置し、該ガス分離体で隔てた片側にある反応ガスと、該ガス分離体で隔てたもう一方の片側にある他の反応ガスとを該ガス分離膜の貫通孔内で化学反応させ、該貫通孔内に固体生成物を蒸着せしめることを特徴とするガス分離体の製造方法。
IPC (4)：
B01D 53/22
, B01D 67/00
, B01D 69/06
, B01D 71/02 500
