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J-GLOBAL ID：200903003057742725

ポジ型レジスト組成物

Inventor： 藤森 亨
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002204340
Publication number (International publication number)：2004045856
Application date： Jul. 12, 2002
Publication date： Feb. 12, 2004
Summary：

【課題】PED安定性及びプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び(C)下記(CA)及び(CB)から選ばれる少なくとも1種の塩基性化合物、(CA)少なくとも1つの(C1)非イオン性含窒素塩基性化合物、及び、少なくとも1つの(C2)イオン性含窒素塩基性化合物からなる塩基性化合物、(CB)少なくとも2種の(C2)イオン性含窒素塩基性化合物からなる塩基性化合物、を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim 1：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)単環又は多環の脂環炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増加する樹脂、及び (C)下記(CA)及び(CB)から選ばれる少なくとも1種の塩基性化合物、 (CA)少なくとも1つの(C1)非イオン性含窒素塩基性化合物、及び、少なくとも1つの(C2)イオン性含窒素塩基性化合物からなる塩基性化合物、 (CB)少なくとも2種の(C2)イオン性含窒素塩基性化合物からなる塩基性化合物、 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R

F-Term (13)：

2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17