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J-GLOBAL ID：200903003062026060
施工済み配管系の内面を不動態化処理する方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
北谷 寿一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002000982
Publication number (International publication number)：2003201554
Application date： Jan. 08, 2002
Publication date： Jul. 18, 2003
Summary：
【要約】【課題】 既設配管や増設配管でも容易に不動態化処理できる処理方法を提供する。【解決手段】 配管を済ませた半導体製造設備や医薬品製造装置等の配管系(1)を新設または増設した際に、該新設または増設した配管系(1)に、オゾンガス源(8)、オゾンガス分解器(9)、真空ポンプ(10)及び計器類を具備したオゾン処理ユニット(4)を持参接続し、配管系(1)の内面にオゾンガスを作用させて、配管系(1)の内面での接ガス面を不動態化処理する
Claim 1：
施工を済ませた配管系(1)に、オゾンガス源(8)、オゾンガス分解器(9)、真空ポンプ(10)及び計器類を具備したオゾン処理ユニット(4)を持参接続し、配管系(1)の内面にオゾンガスを作用させて、配管系(1)の内面を不動態化処理する施工済み配管系の内面を不動態化処理する方法。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (4)：
3H024EA01
, 3H024EC15
, 3H024ED08
, 3H024EE01
Cited by examiner (9)
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