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J-GLOBAL ID：200903003070583989

脂質二分子膜を半導体基板上に作製する方法、その方法により作製された半導体基板、およびその基板を用いたデバイス

Inventor： 古川 一暁 ,  中島 寛 ,  味戸 克裕 ,  後藤 東一郎 ,  鳥光 慶一
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (2)： 谷 義一 ,  阿部 和夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004090278
Publication number (International publication number)：2005274452
Application date： Mar. 25, 2004
Publication date： Oct. 06, 2005
Summary：

【課題】 密着性を持たせるための修飾層を半導体基板上に持たずに、有機の二分子膜を半導体基板上に直接作製すること。【解決手段】 修飾層を持たずに二分子膜を半導体基板上に直接作製させるため、その作製時の温度を制御し、その温度を二分子膜を形成している脂質の液晶転移温度以上にしている。修飾層を持たないため、二分子膜内に配置されるバイオセンサ(たんぱく質)と半導体基板との距離が近づき、そのためバイオセンサの微小な変化を電子デバイスで確実に捉えることができる。この効果は、半導体基板(特にシリコン基板)に形成されるので、酸化膜を除去することにより、酸化膜が無い分、距離が近付き、さらに顕著な効果として発現できるようになる。【選択図】 図1

Claim (excerpt)：

脂質二分子膜を形成する脂質を用いて水溶液中でベシクルを形成させ、 前記ベシクルを用いて酸化膜をもたない半導体基板上あるいは酸化膜を有する半導体基板の該酸化膜上に前記脂質二分子膜を直接固定化することを特徴とする、脂質二分子膜を半導体基板上に作製する方法。

IPC (5)：

G01N27/327 ,  G01N27/414 ,  G01N27/416 ,  H01L29/06 ,  H01L49/00

FI (6)：

G01N27/30 351 ,  H01L29/06 601N ,  H01L49/00 Z ,  G01N27/30 301K ,  G01N27/46 341Z ,  G01N27/46 336Z