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J-GLOBAL ID:200903003075559571
感光性組成物
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
栗原 浩之
, 村中 克年
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007025990
Publication number (International publication number):2008191413
Application date: Feb. 05, 2007
Publication date: Aug. 21, 2008
Summary:
【課題】 酸発生剤とフォトレジストの主成分である酸解離基を有するポリマーとの相溶性が悪いという問題点を伴うことがなく、良好なパターンを得ることができる感光性組成物を提供する。【解決手段】重合体ではない多価フェノールに下記式(1)で表される有機基が導入された感光性多価フェノール誘導体を有機溶媒に溶解させた溶液とする。【化1】(式(1)において、R1は直鎖もしくは分岐の炭素数2〜9の2価の有機基であり、R2〜R5はそれぞれ独立に水素原子又は直鎖もしくは分岐の炭素数1〜3の有機基であり、R6及びR7はそれぞれ独立に有機基であり、R6とR7とは一緒になって2価の有機基を形成していてもよい。X-は陰イオンを表す。)【選択図】 なし
Claim 1:
重合体ではない多価フェノールに下記式(1)で表される有機基が導入された感光性多価フェノール誘導体を有機溶媒に溶解させた溶液であることを特徴とする感光性組成物。
IPC (3):
G03F 7/004
, G03F 7/039
, H01L 21/027
FI (3):
G03F7/004 503A
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
F-Term (19):
2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AA11
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BG00
, 2H025BJ04
, 2H025FA12
, 2H025FA17
, 4C036AD02
, 4C036AD04
, 4C036AD18
, 4H006AA03
, 4H006AB76
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (11)
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米国特許第4491628号
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ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-430595
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-041587
Applicant:信越化学工業株式会社
-
ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2005-088353
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
ポジ型レジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-257964
Applicant:富士フイルム株式会社
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スルホニウム塩
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-025957
Applicant:東洋合成工業株式会社
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スルホニウム塩
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-025958
Applicant:東洋合成工業株式会社
-
スルホニウム塩
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-025956
Applicant:東洋合成工業株式会社
-
スルホニウム塩
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-025960
Applicant:東洋合成工業株式会社
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スルホニウム塩
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-025959
Applicant:東洋合成工業株式会社
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スルホニウム塩
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2007-025961
Applicant:東洋合成工業株式会社
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