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J-GLOBAL ID：200903003080346152

高周波インダクタの製造方法

Inventor： 西山 茂 ,  石田 修一 ,  木下 欣也 ,  坂倉 光男
Applicant, Patent owner： 東光株式会社
Agent (1)： 大田 優
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995145258
Publication number (International publication number)：1996316080
Application date： May. 19, 1995
Publication date： Nov. 29, 1996
Summary：

【要約】【目的】 精度のよい導体パターンを形成して公差の小さいインダクタを得るとともに、導体膜厚を大きくしてQを向上させる。【構成】 感光性導体ペーストを用いて導体膜を形成し、露光、現像によって所定のスパイラル導体パターンを形成する。スパイラル導体パターンの中央の端部は絶縁層を介して端子に接続される導体パターンと接続される。

Claim (excerpt)：

絶縁基板上に導体パターンをスパイラル状に形成する高周波インダクタの製造方法において、感光性導体ペーストを用いて導体パターンを形成し、導体パターンの端部をそれぞれ端子電極に接続することを特徴とする高周波インダクタの製造方法。

IPC (2)：

H01F 41/04 ,  H01F 17/00

FI (2)：

H01F 41/04 C ,  H01F 17/00 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 特開平2-123706
  
• 感光性導電ペースト
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-289340   Applicant：田中貴金属工業株式会社
• 特開昭58-108794
  
• 導体パターン形成用積層体
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-145606   Applicant：旭化成工業株式会社
• 導体パターン形成材料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-070619   Applicant：株式会社東芝
• 特開平2-123706
  
• 特開昭58-108794