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J-GLOBAL ID：200903003101499515

半導体光触媒反応装置及び電解装置からなる水素の製造装置

Inventor： 佐山 和弘 ,  荒川 裕則 ,  岡部 清美 ,  草間 仁
Applicant, Patent owner： 経済産業省産業技術総合研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000391356
Publication number (International publication number)：2001233602
Application date： Nov. 27, 1997
Publication date： Aug. 28, 2001
Summary：

【要約】【課題】太陽エネルギーを用いる水素を電解製造する装置において、電解電圧を大幅に減少させ、システム全体のコストおよびエネルギー収支を大幅に改善する装置の提供。【解決手段】鉄(III)イオンを含む水溶液の存在下に、半導体光触媒の表面に、光照射して酸素を発生させ、鉄(III)イオンを鉄(II)イオンに還元する半導体光触媒反応装置と、得られた鉄(II)イオンを含む水溶液を酸化して鉄(III)イオンとし、水素を発生させる電解装置、及び発生する鉄(III)イオンを含有する水溶液を半導体光反応装置に供給する装置からなることを特徴とする水素の製造装置

Claim (excerpt)：

鉄(III)イオンを含む水溶液の存在下に、半導体光触媒に、光照射して酸素を発生させ、鉄(III)イオンを鉄(II)イオンに還元する半導体光触媒反応装置と、得られた鉄(II)イオンを含む水溶液を酸化して鉄(III)イオンとし、水素を発生させる電解装置、及び発生する鉄(III)イオンを含有する水溶液を半導体光反応装置に供給する装置からなることを特徴とする水素の製造装置。

IPC (7)：

C01B 3/04 ,  B01J 21/06 ,  B01J 23/30 ,  B01J 23/652 ,  B01J 35/02 ,  C01B 13/02 ,  C25B 1/04

FI (7)：

C01B 3/04 R ,  B01J 21/06 M ,  B01J 23/30 M ,  B01J 35/02 J ,  C01B 13/02 B ,  C25B 1/04 ,  B01J 23/64 103 M