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J-GLOBAL ID：200903003117659547

プラズマ装置用RF電源

Inventor： 伊藤 洋司
Applicant, Patent owner： 日本電子株式会社
Agent (1)： 井島 藤治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993260576
Publication number (International publication number)：1995114999
Application date： Oct. 19, 1993
Publication date： May. 02, 1995
Summary：

【要約】【目的】 長寿命の真空管式プラズマ装置用RF電源を実現する。【構成】 RF発振器1から発振された高周波は、第1の電力増幅器2によって増幅された後、第2の増幅器3によって増幅され、端子Toからプラズマ装置6に供給される。ここで、第2の増幅器3における真空管のプレート電流に対応した信号はリミッタ回路7に供給される。リミッタ回路7では、プレート電流が予め設定された閾値より低くなったとき、信号をフィラメント電圧制御回路8に供給する。フィラメント電圧制御回路8には電力検出器4から第1の増幅器2の出力に応じた信号も供給されている。制御回路8は、リミッタ回路7からプレート電流が閾値より低くなったことを示す信号が供給されると、電力検出器4からのモニター信号に応じてフィラメント電圧を上昇させる。

Claim (excerpt)：

RF発振器と、RF発振器からの高周波を増幅する第1の増幅器と、第1の増幅器の出力を増幅する真空管式の第2の増幅器とを備え、第2の増幅器の出力をプラズマ装置に供給するプラズマ装置用RF電源において、第1の増幅器の出力をモニターするモニター手段と、第2の増幅器の真空管の出力の低下を監視する監視手段と、モニター手段からの信号と監視手段からの信号に基づいて、真空管のフィラメント電圧を制御するように構成したプラズマ装置用RF電源。