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J-GLOBAL ID：200903003119823476

ピストンリング及びその形成法

Inventor： ラスル、イー、ハイト
Applicant, Patent owner： デーナ、コーポレイション
Agent (1)： 真田 雄造 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993352444
Publication number (International publication number)：1994221437
Application date： Dec. 29, 1993
Publication date： Aug. 09, 1994
Summary：

【要約】【目的】 高い耐すりきず性を持ち、しかも耐チッピング性にすぐれ、かつ十分な被覆厚さを持ち、かつ摩擦係数の低い面被覆を持つピストンリングを提供することにある。【構成】 ピストンリング20の基体26の外周面24にガス窒化層28を形成する。次いでこのガス窒化層28に窒化クロム面被覆30を形成する。ガス窒化層は、窒化クロム面被覆のチッピングを防止する極めて硬い基板として作用する。窒化クロム面被覆の損傷は又、前記の2層間の接着強さが増大するので最少になる。窒化クロム面被覆は、高い密度、低い摩擦係数、高い硬さ及び対応する高い耐すりきず性を持つ。ガス窒化層の表面の凹凸を除くように、ガス窒化層をラップ仕上げしかつつや出しする。

Claim (excerpt)：

外周面を持つ外表面を備えた大体において環状の基体と、この基体の少なくとも前記外周面に設けたガス窒化層と、少なくとも前記外周面において前記ガス窒化層に設けた窒化クロム面被覆と、を包含するピストンリング。

IPC (3)：

F16J 9/26 ,  C23C 28/04 ,  F02F 5/00