Pat

J-GLOBAL ID：200903003126648060

整髪用エアゾールスプレー製品

Inventor： 宇津 敦 ,  宇梶 和雄
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 田治米 登 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996052481
Publication number (International publication number)：1997124449
Application date： Feb. 14, 1996
Publication date： May. 13, 1997
Summary：

【要約】【課題】 毛髪に十分な水分を供給して毛髪の寝癖等の乱れを良好に直すことができ、しかも良好なセット力を有し、更にスプレー特性にすぐれた整髪用エアゾールスプレー製品を提供する。【解決手段】 成分(A)エタノール(1〜50重量%)、成分(B)毛髪固定用高分子化合物(0.05〜5重量%)及び成分(C)水(バランス量)を含有する整髪剤原液と、ジメチルエーテルからなる噴射剤とを、原液/噴射剤=60/40〜90/10(重量比)の比率でエアゾールスプレー用耐圧容器に充填し、その噴射量を8g/10秒以上に調整する。

Claim (excerpt)：

以下の成分(A)〜(C)(A) エタノール 1〜50重量%(B) 毛髪固定用高分子化合物 0.05〜5重量%(C) 水 バランス量を含有する整髪剤原液と、ジメチルエーテルからなる噴射剤とを、原液/噴射剤=60/40〜90/10(重量比)の比率で含有し、且つ25°Cにおける噴射量が8g/10秒以上に調整されていることを特徴とする整髪用エアゾールスプレー製品。

IPC (3)：

A61K 7/11 ,  A61K 7/00 ,  A61K 7/06

FI (3)：

A61K 7/11 ,  A61K 7/00 S ,  A61K 7/06

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特表平6-507646
  
• 育毛用エアゾール製剤
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-202946   Applicant：株式会社ツムラ, 小池化学株式会社
• 加圧分与装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-361345   Applicant：ロレアル