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J-GLOBAL ID：200903003127895290

接触気相酸化反応

Inventor：
中村 大介

About 中村 大介

, 
谷本 道雄

About 谷本 道雄


Applicant, Patent owner：
株式会社日本触媒

About 株式会社日本触媒


Agent (1)： 松本 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004306984
Publication number (International publication number)：2005320315
Application date： Oct. 21, 2004
Publication date： Nov. 17, 2005
Summary：
【課題】 より高いガス圧力や原料ガス濃度およびより大きな反応ガス空間速度の反応条件下においても、ホットスポット部における蓄熱を容易かつ低コストで十分に抑制することができ、高い収率を維持しながら長期にわたって反応を継続することができる接触気相酸化反応を提供する。 【解決手段】 本発明の接触気相酸化反応は、触媒を充填した固定床多管式反応器を用いた、分子状酸素または分子状酸素含有ガスによる接触気相酸化反応において、前記反応器における各反応管の触媒充填層が管軸方向に複数の反応帯に分けられていて、前記触媒の充填は、前記複数の反応帯の少なくとも2つにおいてその占有容積が異なる充填であり、かつ、前記複数の反応帯の少なくとも1つにおいて不活性物質成形体が混合されている充填であることを特徴とする。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
触媒を充填した固定床多管式反応器を用いた、分子状酸素または分子状酸素含有ガスによる接触気相酸化反応において、 前記反応器における各反応管の触媒充填層が管軸方向に複数の反応帯に分けられていて、 前記触媒の充填は、前記複数の反応帯の少なくとも2つにおいてその占有容積が異なる充填であり、かつ、前記複数の反応帯の少なくとも1つにおいて不活性物質成形体が混合されている充填である、 ことを特徴とする、接触気相酸化反応。
IPC (8)：
C07C45/35 ,  B01J8/06 ,  C07C45/37 ,  C07C47/22 ,  C07C51/235 ,  C07C51/25 ,  C07C57/05 ,  C07C57/055
FI (8)：
C07C45/35 ,  B01J8/06 ,  C07C45/37 ,  C07C47/22 A ,  C07C51/235 ,  C07C51/25 ,  C07C57/05 ,  C07C57/055 A
F-Term (28)：
4G070AA01 ,  4G070AB04 ,  4G070BA08 ,  4G070BB02 ,  4G070BB06 ,  4G070CB17 ,  4G070DA05 ,  4G070DA12 ,  4G070DA21 ,  4H006AA02 ,  4H006AC45 ,  4H006AC46 ,  4H006BA13 ,  4H006BA14 ,  4H006BA19 ,  4H006BA20 ,  4H006BA21 ,  4H006BA30 ,  4H006BA31 ,  4H006BA35 ,  4H006BA82 ,  4H006BC11 ,  4H006BC13 ,  4H006BE30 ,  4H006BS10 ,  4H039CA62 ,  4H039CA65 ,  4H039CC30
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
  • 特公平7-84400号公報
  • アクリル酸の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-048562   Applicant：株式会社日本触媒
  • アクリル酸の製造方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-156851   Applicant：住友化学工業株式会社
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Cited by examiner (6)
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