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J-GLOBAL ID:200903003154383080

高純度電気銅とその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 千葉 博史
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005069752
Publication number (International publication number):2005307343
Application date: Mar. 11, 2005
Publication date: Nov. 04, 2005
Summary:
【課題】 表面が平滑かつ緻密であって、銀およびイオウの含有量が少ない高純度な電気銅を提供する。【手段】 銅の電解精製において、陰極で析出する銅の表面性状を改善する高分子添加剤(平滑化剤)と、陽極表面で生成する銅粉を含むスライムの生成量を増加させる高分子添加剤(スライム促進剤)を併用することによって析出銅の表面を平滑にし、かつ析出銅の不純物量を低減することを特徴とする電気銅の製造方法であり、例えば、硝酸浴を用い、平滑化剤としてPVA、スライム促進剤としてPEGを用い、スライムの生成率を10%〜50%に制御して銀含有量0.5ppm以下およびイオウ含有量0.01ppm以下の表面が平滑な高純度銅を製造する。【選択図】 なし
Claim (excerpt):
銅の電解精製において、陰極で析出する銅の表面性状を改善する高分子添加剤(平滑化剤と云う)と、陽極表面で生成する銅粉を含むスライムの生成量を増加させる高分子添加剤(スライム促進剤と云う)を併用することによって析出銅の表面を平滑にすると共に析出銅の不純物量を低減することを特徴とする電気銅の製造方法。
IPC (2):
C25C1/12 ,  C25C1/00
FI (2):
C25C1/12 ,  C25C1/00 301A
F-Term (7):
4K058AA12 ,  4K058AA30 ,  4K058BA21 ,  4K058CA03 ,  4K058CA09 ,  4K058DD16 ,  4K058DD22
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
  • 特開平2-22489号公報
  • 特開昭57-16188号公報
Cited by examiner (6)
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