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J-GLOBAL ID:200903003155136710
位置計測方法、位置計測装置、露光装置、及びデバイス製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4):
志賀 正武
, 高橋 詔男
, 青山 正和
, 西 和哉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004235156
Publication number (International publication number):2006053056
Application date: Aug. 12, 2004
Publication date: Feb. 23, 2006
Summary:
【課題】 計測精度の向上を図ることが可能な位置計測方法を提供する。【解決手段】 位置計測装置は、物体上に形成された周期パターンからなるマークを結像光学系を介して検出し、その検出結果に基づいてマークの位置情報を計測する。マークを含む被照射領域から得られるマーク光は、0次回折光以外の偶数次回折光が除去されており、マーク光の画像信号から、マーク光に含まれる奇数次回折光に対応する周波数成分を抽出し、その抽出された周波数成分を用いてマークの位置情報を計測する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
物体上に形成された周期パターンからなるマークを結像光学系を介して検出し、該検出結果に基づいて前記マークの位置情報を計測する位置計測方法であって、
前記マークを含む被照射領域から得られるマーク光は、0次回折光以外の偶数次回折光が除去されており、
前記マーク光の画像信号から、前記マーク光に含まれる奇数次回折光に対応する周波数成分を抽出し、該抽出された周波数成分を用いて前記マークの位置情報を計測することを特徴とする位置計測方法。
IPC (3):
G01B 11/00
, G03F 9/00
, H01L 21/027
FI (3):
G01B11/00 H
, G03F9/00 H
, H01L21/30 525W
F-Term (35):
2F065AA02
, 2F065AA06
, 2F065AA07
, 2F065AA14
, 2F065AA20
, 2F065BB02
, 2F065BB18
, 2F065BB27
, 2F065CC18
, 2F065CC19
, 2F065CC20
, 2F065DD04
, 2F065DD12
, 2F065FF04
, 2F065FF10
, 2F065FF55
, 2F065GG03
, 2F065GG04
, 2F065JJ03
, 2F065JJ05
, 2F065JJ26
, 2F065LL22
, 2F065LL42
, 2F065LL46
, 2F065LL47
, 2F065PP02
, 2F065PP12
, 2F065QQ25
, 5F046BA03
, 5F046EA07
, 5F046EB01
, 5F046EB02
, 5F046ED01
, 5F046FB13
, 5F046FC04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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投影露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-111979
Applicant:株式会社ニコン
-
アライメント装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-016589
Applicant:株式会社ニコン
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