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J-GLOBAL ID：200903003196633043

基板処理装置

Inventor： 船吉 俊充 ,  谷出 敦
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (2)： 吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008079776
Publication number (International publication number)：2009238807
Application date： Mar. 26, 2008
Publication date： Oct. 15, 2009
Summary：

【課題】動的な機構を付加することなく、基板の表面において超音波振動が伝播しない領域を低減し、基板の表面を均一に洗浄できる基板処理装置を提供する。【解決手段】内槽11の側壁11b,11dに、傾斜面14a,15aを有する反射部材14,15を設ける。内槽11の側部付近に付与された超音波振動は、反射部材14,15の傾斜面14a,15aにおいて反射し、支持棒211〜213の上方の領域に伝播する。このため、これらの領域にも超音波振動が伝播し、基板Wの表面において超音波振動が伝播しない領域が低減される。これにより、基板Wの表面を均一に洗浄できる。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

処理液中に基板を浸漬しつつ基板に超音波振動を付与することにより、基板の表面からパーティクルを除去する基板処理装置であって、 処理液を貯留する処理槽と、 前記処理槽の内部において基板を下方から支持する基板支持部と、 前記処理槽の内部に処理液を供給するノズルと、 前記処理槽の下方位置から前記処理槽の内部へ向けて超音波振動を付与する超音波振動付与部と、 を備え、 前記処理槽の側壁または前記側壁の近傍に、前記超音波振動付与部から付与された超音波振動を前記基板支持部の上方位置へ向けて反射させる傾斜面が形成されていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (2)：

H01L 21/304 ,  H01L 21/683

FI (2)：

H01L21/304 642E ,  H01L21/68 N

F-Term (25)：

5F031CA02 ,  5F031HA24 ,  5F031HA42 ,  5F031HA45 ,  5F031HA73 ,  5F031MA23 ,  5F157AA73 ,  5F157AB03 ,  5F157AB13 ,  5F157AB34 ,  5F157AB42 ,  5F157AB94 ,  5F157AC01 ,  5F157AC13 ,  5F157BB07 ,  5F157BB13 ,  5F157BB22 ,  5F157BB33 ,  5F157BB73 ,  5F157CE86 ,  5F157CF10 ,  5F157DB02 ,  5F157DB37 ,  5F157DC51 ,  5F157DC90

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• 超音波洗浄装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2005-146755   Applicant：シャープ株式会社