光触媒性親水性被膜の形成方法ならびに光触媒性親水性被膜形成用基材洗浄剤および光触媒性親水性被膜形成材料

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998112787
Publication number (International publication number)：1998337526
Application date： Apr. 08, 1998
Publication date： Dec. 22, 1998
Summary：

【要約】【課題】既設の基材の汚れの影響で表面の透明性、意匠性や親水性が損なわれることのない光触媒性親水性被膜の形成方法ならびに基材の汚れを除去するための洗浄剤および光触媒性親水性被膜形成材料を提供する。【解決手段】基材表面を洗浄する工程を行った後に、光触媒性親水性コ-ティング液を塗布し、硬化せしめることにより光触媒性親水性被膜を形成する。洗浄剤は、基材の種類や汚れに応じて、酸性洗浄剤、塩基性洗浄剤、界面活性剤や研磨剤を配合させた洗浄剤、有機溶剤等が適宜利用できる。

Claim (excerpt)：

基材表面を洗浄する工程を行った後に、光触媒性親水性コ-ティング液を塗布し、硬化せしめることを特徴とする光触媒性親水性被膜の形成方法。

IPC (9)：

B05D 3/10 , B05D 5/00 , B05D 7/24 302 , B05D 7/24 303 , B32B 27/00 , B32B 33/00 , C09D 1/00 , C09D 5/00 , B01J 35/02

FI (9)：

B05D 3/10 F , B05D 5/00 G , B05D 7/24 302 Y , B05D 7/24 303 B , B32B 27/00 A , B32B 33/00 , C09D 1/00 , C09D 5/00 Z , B01J 35/02 J

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (8)

親水性繊維及びその加工品
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-156400 Applicant：東陶機器株式会社
光触媒含有組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-211391 Applicant：日本化薬株式会社
基材表面の親水化処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-150169 Applicant：東陶機器株式会社

Show all

Return to Previous Page