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J-GLOBAL ID：200903003237342180
パターン光投光装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995136660
Publication number (International publication number)：1996327891
Application date： Jun. 02, 1995
Publication date： Dec. 13, 1996
Summary：
【要約】【目的】この発明は、被写体のコントラストが低かったり被写体が暗い場合にも誤検出のない焦点調節装置を実現するために、被写体像に応じて投光パターンを生成して目的に応じた最適なパターン光を投光することを特徴とする。【構成】撮像部11により得られた被写体像は、投光パターン生成部12に供給される。この投光パターン生成部12では、被写体のコントラストや所定の周波数帯域を増大させるための投光パターンが生成される。そして、この投光パターン生成部12で生成されたパターンに基いて、投光部13より投光がなされる。これにより、被写体の画像に応じた投光パターンを生成し、そのパターンを被写体に投光することによって、被写体のコントラストや所定の周波数帯域を増大させることができ、また焦点調節装置の場合は焦点調節精度を大幅に向上することができる。
Claim (excerpt)：
被写体に向けて投光すべく所定のパターン光を生成する投光パターン生成手段と、この投光パターン生成手段により生成された所定のパターン光を上記被写体に向けて投光する投光手段と、この投光手段による上記被写体からの反射光を受光して結像される被写体像を光電変換する撮像手段とを備えるパターン光投光装置に於いて、上記投光パターン生成手段は、上記投光手段により投光するパターン光を上記撮像手段にて結像された被写体像に応じて生成することを特徴とするパターン光投光装置。
IPC (2)：
FI (2)：
G02B 7/11 B
, G03B 3/00 A
