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J-GLOBAL ID：200903003241874090

フッ素系高分子成形品の化学めっき方法

Inventor： 新納 弘之 ,  矢部 明
Applicant, Patent owner： 工業技術院長
Agent (1)： 工業技術院物質工学工業技術研究所長
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993069327
Publication number (International publication number)：1994256548
Application date： Mar. 04, 1993
Publication date： Sep. 13, 1994
Summary：

【要約】【目的】 フッ素系高分子成形品の表面を親水化して、化学めっき法によって金属膜を該表面に堆積させる方法を提供する。【構成】 フッ素系高分子成形品表面にヒドラジン類の存在下に紫外レーザー光を照射することにより該高分子成形品の表面を親水化し、次いで化学めっきを行って該高分子成形品の表面に位置選択的に密着性よく金属膜を堆積させるフッ素系高分子成形品の化学めっき方法。

Claim (excerpt)：

フッ素系高分子成形品にヒドラジン類の存在下に紫外レーザー光を照射することにより該高分子成形品の表面を親水化し、次いで化学めっきを行なって該高分子成形品の表面に金属膜を堆積させることを特徴とするフッ素系高分子成形品の化学めっき方法。

IPC (6)：

C08J 7/12 CEW ,  C08J 7/00 CEW ,  C08J 7/00 304 ,  C23C 14/28 ,  C23C 18/20 ,  C08L 27:12