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J-GLOBAL ID：200903003242807507

露光装置

Inventor：
高林 幸夫

About 高林 幸夫


Applicant, Patent owner：
キヤノン株式会社

About キヤノン株式会社


Agent (2)： 伊東 哲也 ,  齋藤 和則
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007070930
Publication number (International publication number)：2008235457
Application date： Mar. 19, 2007
Publication date： Oct. 02, 2008
Summary：
【課題】 物像間の光速度遅延に起因した、走査速度に依存した位置ずれが重ね合わせ精度を劣化させる。【解決手段】 レチクルとウエハとの物像間隔と屈折率から露光光が到達するまでの遅延時間を算出する。レチクルとウエハの各ステージが同期して走査する走査速度と、遅延時間との積をとることで、走査速度に比例して発生する位置ずれ量を補正する補正値を算出し、各ステージの駆動目標値に反映させることで、重ね合わせの精度を向上させる。【選択図】 図1
Claim 1：
原版のパターンを投影光学系を介して基板に投影し、該投影光学系の光軸に対し前記原版と基板を同期して移動することにより前記原版のパターンを前記基板に露光する走査型の露光装置であって、 前記原版と基板とを同期して移動する際、その移動の速度に応じた量、前記原版と基板との相対位置を補正する手段を有することを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (3)：
H01L21/30 516B ,  H01L21/30 518 ,  G03F7/20 521
F-Term (7)：
5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC15 ,  5F046DA30 ,  5F046DB04 ,  5F046FB20
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (6)
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