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J-GLOBAL ID：200903003249516478
レジスト溶液およびその調製方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
浅村 皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998034900
Publication number (International publication number)：1999231539
Application date： Feb. 17, 1998
Publication date： Aug. 27, 1999
Summary：
【要約】【課題】 ArFエキシマレーザーに対して高い透明性を有し、かつ耐ドライエッチング耐性に優れ、さらに安定して優れたパターン形状を与えるレジスト溶液を提供する。【解決手段】 酸と反応して脱離する脂環式炭化水素基を含有する構造単位を含むポリマーおよび酸発生剤を含有するレジスト組成物と溶媒とを含んでなるレジスト溶液であって、前記レジスト溶液が0.1μm以上の固形物を含有しないことを特徴とするレジスト溶液である。
Claim (excerpt)：
酸と反応して脱離する脂環式炭化水素基を含有する構造単位を含むポリマーおよび酸発生剤を含有するレジスト組成物と溶媒とを含んでなるレジスト溶液であって、前記レジスト溶液が直径0.1μm以上の固形物を含有しないことを特徴とするレジスト溶液。
IPC (2)：
G03F 7/039 601
, H01L 21/027
G03F 7/039 601
, H01L 21/30 502 R
