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J-GLOBAL ID：200903003255530440

パターン形成用モールド,パターン形成用モールドの離型処理方法および離型剤濃度の評価方法

Inventor： 村尾 健二
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 井上 学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006128862
Publication number (International publication number)：2007296823
Application date： May. 08, 2006
Publication date： Nov. 15, 2007
Summary：

【課題】本発明は、モールドを用いてモールド表面の微細なパターンを樹脂膜等の被転写体に転写する際に、事前にモールド表面が離型作用を受けるに十分な量の離型剤で被覆されているか否かを迅速且つ簡便に知る方法、離型剤濃度を評価可能なモールド並びにモールドの離型処理方法を提供することを目的とする。【解決手段】表面に凹凸パターンが形成されたパターン形成用モールドであり、該パターン形成用モールドを被転写体に対して凹凸パターン面を押し付けて該凹凸パターンを転写するためのパターン形成用モールドにおいて、少なくとも前記凹凸パターン面に離型作用を持つ物質および所定の検出手法に対して標識となる物質が付着されていることを特徴とする。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

表面に凹凸パターンが形成されたパターン形成用モールドであり、該パターン形成用モールドを被転写体に対して凹凸パターン面を押し付けて該凹凸パターンを転写するためのパターン形成用モールドにおいて、 少なくとも前記凹凸パターン面に離型作用を持つ物質および所定の検出手法に対して標識となる物質が付着されていることを特徴とするパターン形成用モールド。

IPC (6)：

B29C 59/02 ,  B29C 43/50 ,  B29C 33/42 ,  B29C 33/62 ,  H01L 21/027 ,  B82B 3/00

FI (6)：

B29C59/02 B ,  B29C43/50 ,  B29C33/42 ,  B29C33/62 ,  H01L21/30 502D ,  B82B3/00

F-Term (27)：

4F202AF01 ,  4F202AG01 ,  4F202AG05 ,  4F202AJ06 ,  4F202AJ07 ,  4F202AJ09 ,  4F202AJ11 ,  4F202AP19 ,  4F202AQ01 ,  4F202CA09 ,  4F202CB01 ,  4F202CB29 ,  4F202CD08 ,  4F202CD22 ,  4F202CM82 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AJ01 ,  4F209AJ08 ,  4F209AQ00 ,  4F209AQ01 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC01 ,  4F209PC05 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28