Pat
J-GLOBAL ID：200903003258854297

微粉塵等の除去システム

Inventor：
▲吉▼田 英人

About ▲吉▼田 英人

, 
小松 健太郎

About 小松 健太郎


Applicant, Patent owner：
株式会社メンテック

About 株式会社メンテック


Agent (1)： 青山 葆 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002053770
Publication number (International publication number)：2003251131
Application date： Feb. 28, 2002
Publication date： Sep. 09, 2003
Summary：
【要約】【課題】 微粒子及び粉塵の両者を同時に除去することができる微粉塵等の除去システムを提供する。【解決手段】 少なくとも界面活性剤を含む薬液水溶液を、粉塵に向けて気泡の形で吹付けて粉塵を気泡の層で覆う気泡吹付け手段と、少なくとも界面活性剤を含む薬液水溶液を、空中に浮遊する微粒子に向けて噴霧して霧により浮遊微粒子を捕集して落下させる噴霧手段とを備える。
Claim (excerpt)：
少なくとも界面活性剤を含む薬液水溶液を、粉塵に向けて気泡の形で吹付けて粉塵を気泡の層で覆う気泡吹付け手段と、少なくとも界面活性剤を含む薬液水溶液を、空中に浮遊する微粒子に向けて噴霧して霧により浮遊微粒子を捕集して落下させる噴霧手段とを備えることを特徴とする微粉塵等の除去システム。
IPC (4)：
B01D 47/06 ,  B01D 47/00 ,  B08B 15/00 ,  E02F 3/36
FI (4)：
B01D 47/06 Z ,  B01D 47/00 A ,  B08B 15/00 ,  E02F 3/36 A
F-Term (7)：
2D012DA00 ,  3B117AA01 ,  3B117BA51 ,  4D032AC07 ,  4D032AE01 ,  4D032BA03 ,  4D032DA01
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3)
  • 脱塵方法と装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-220024   Applicant：バブコック日立株式会社
  • 特開平3-188911
  • 粉塵の処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-105966   Applicant：タイホー工業株式会社
Cited by examiner (3)
  • 脱塵方法と装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-220024   Applicant：バブコック日立株式会社
  • 特開平3-188911
  • 粉塵の処理装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-105966   Applicant：タイホー工業株式会社

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM