ネガ型レジスト組成物

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：棚井澄雄 , 志賀正武 , 青山正和 , 鈴木三義 , 柳井則子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004080481
Publication number (International publication number)：2005266474
Application date： Mar. 19, 2004
Publication date： Sep. 29, 2005
Summary：

【課題】微細なレジストパターンを形成できるネガ型レジスト組成物を提供する【解決手段】下記一般式(I)で表される構成単位(a1)と、下記一般式(II)で表される構成単位(a2)とを有するシルセスキオキサン樹脂(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、架橋剤成分(C)とを含むことを特徴とするネガ型レジスト組成物。【化1】(式中、R1は炭素数1〜5の直鎖状または分岐状のアルキレン基を表す。)【化2】【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記一般式(I)

IPC (4)：

G03F7/038 , C08G77/16 , G03F7/075 , H01L21/027

FI (4)：

G03F7/038 601 , C08G77/16 , G03F7/075 511 , H01L21/30 502R

F-Term (36)：

2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AB16 , 2H025AC06 , 2H025AD01 , 2H025BE00 , 2H025CB33 , 2H025CB45 , 2H025CB55 , 2H025CB56 , 2H025CC20 , 2H025FA17 , 2H025FA41 , 4J246AA03 , 4J246BA12X , 4J246BA120 , 4J246BB02X , 4J246BB020 , 4J246BB022 , 4J246CA40X , 4J246CA400 , 4J246CA52X , 4J246CA520 , 4J246CA53X , 4J246CA530 , 4J246CA55X , 4J246CA550 , 4J246FA011 , 4J246FA081 , 4J246FA321 , 4J246FC061 , 4J246FE04 , 4J246FE23 , 4J246GA01 , 4J246GA02 , 4J246HA15

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

フォトレジスト組成物及びフォトレジスト像形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-331268 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

Cited by examiner (4)

電子線レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-154128 Applicant：東京応化工業株式会社
特許第6340734号
シランモノマー及びポリマーを製造する方法及びそれを含むフォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-054579 Applicant：シップレーカンパニーエルエルシー

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