液体原料用CVD装置、および液体原料を用いたCVDプロセスと、その液体原料

Inventor： , , , , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高田守
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994057359
Publication number (International publication number)：1995268634
Application date： Mar. 28, 1994
Publication date： Oct. 17, 1995
Summary：

【要約】【目的】液体原料の輸送過程、気化過程、成膜過程において、原料成分の固化による粒子析出による不具合を防止した液体原料用CVD装置を得るとともに、組成ずれの無い良質な薄膜を基板上に形成できる液体原料を用いたCVDプロセスおよび、液体原料を得る。【構成】密閉され、溶媒(ここではTHF)が貯蔵された溶媒容器18にはバルブ20および21の一方端から延在する配管が接続れ、バルブ20の他方端から延在する配管はバルブ12の他方端から延在する配管に共通に接続されている。【効果】パーティクルの原因になったり、液体原料容器1の交換後に、新たに液体原料を流したときに配管内に残っていたSr(DPM)2 が再溶解し溶液濃度が変化(増大)することを防止して、安定な原料供給ができる。

Claim (excerpt)：

溶媒液に固体原料を溶かして形成された液体原料を収容するための原料容器、前記液体原料を高温化して気化させる気化器、気化した前記液体原料と、反応性気体とを用いて薄膜層を形成する反応室を備え、前記原料容器、前記気化器、前記反応室間が配管によって接続されたCVD装置において、前記溶媒液のみを収容する溶媒容器をさらに備え、溶媒容器から前記溶媒を前記配管に送出することによって、前記配管内を洗浄することを特徴とする液体原料用CVD装置。

IPC (3)：

C23C 16/44 , C23C 16/40 , H01L 21/205

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平3-208889
特開平1-246366
特開平4-104667

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