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J-GLOBAL ID：200903003287194115

E-ビームレジスト用の塩基現像可能な放電トップ層

Inventor： ウー-ソン・ホワン ,  ラニー・ダブリユー・クウオン ,  ジエラルド・ジヨゼフ・ロス ,  ハーバンズ・エス・サクデブ
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 頓宮 孝一 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992259348
Publication number (International publication number)：1993226238
Application date： Sep. 29, 1992
Publication date： Sep. 03, 1993
Summary：

【要約】【目的】 水性塩基可溶性の導電性ポリマーを、電気的帯電を消失させるために利用することと、これにより荷電粒子ビームを含む方法の精度を改善することに関する。【構成】 電気伝導性の官能化ポリマーとしてポリアニリン、ポリパラフェニルビニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリ-p-フェニレンオキサイド、ポリフラン、ポリフェニレン、ポリアジン、ポリセレノフェン、ポリフェニレンサルファイドおよびポリアセチレンを用いる荷電粒子ビームからの蓄積された電荷を消失させるための組成物と、ポリ(ヒドロキシアニリン)とポリチオフェンの合成方法と、水性塩基可溶性の導電性フィルムを調製するための方法が述べられている。

Claim (excerpt)：

置換および未置換のポリパラフェニルビニレン、ポリアニリン、ポリアジン、ポリチオフェン、ポリ-p-フェニレンサルファイド、ポリ-p-フェニレンオキサイド、ポリフラン、ポリピロール、ポリセレノフェンおよびポリアセチレンからなる群より選ばれた電気伝導性で、水性塩基可溶性のポリマーまたはオリゴマーの15〜100%を包含する、荷電粒子ビームからの蓄積された電荷を消失させるための組成物。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/11 501 ,  G03F 7/20 504

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 特開平1-132122
  
• 特開平2-039156
  
• 特開平2-245755
  
• 特開平3-119718