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J-GLOBAL ID：200903003290222308

PZT前駆体ゾル及びこのPZT前駆体ゾルの調製方法並びにこのPZT前駆体ゾルを用いたPZT薄膜の形成方法

Inventor： 鈴木 久男
Applicant, Patent owner： 金子 正治 ,  浜松光電株式会社
Agent (1)： 古澤 俊明 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998096913
Publication number (International publication number)：1999278846
Application date： Mar. 26, 1998
Publication date： Oct. 12, 1999
Summary：

【要約】【目的】 工業的な応用のため、長時間ゲル化が起きない安定な前駆体ゾルを得ることと、強誘電体のPZT薄膜を低温で形成する方法を確立すること。【構成】 酢酸鉛を酢酸に溶解した前駆体ゾル溶液中に、チタン又はジルコニウムのアルコキシドを加えてPZT用前駆体ゾルを調製してなるもので、この調製は、酢酸鉛の脱水工程と、チタンアルコキシドをキレート化する工程と、チタン原料と鉛原料の混合工程と、ジルコニウムアルコキシドをキレート化する工程と、チタン原料、鉛原料及びジルコニウム原料の混合工程と、前駆体溶液の加水分解工程と、ゾルの分散と安定化工程とからなる。このため、安定な溶液を調製でき、また、チタン酸鉛をバッファー層として使用し、鉛過剰添加の前駆体ゾルを使用することにより、従来よりも低温でペロブスカイト化が可能である。

Claim (excerpt)：

PZT前駆体ゾル溶液中に、このPZT前駆体ゾル溶液を安定化するためにカルボキシル基を有する物質を加えてなることを特徴とするPZT前駆体ゾル。

IPC (4)：

C01G 25/00 ,  B01J 13/00 ,  C04B 35/49 ,  H01B 3/12 301

FI (4)：

C01G 25/00 ,  B01J 13/00 C ,  H01B 3/12 301 ,  C04B 35/49 A