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J-GLOBAL ID：200903003302870645

無機多孔質膜の製造方法

Inventor： 新 佳之 ,  大西 孝明 ,  長田 和男
Applicant, Patent owner： 株式会社クボタ
Agent (1)： 北村 修一郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998172585
Publication number (International publication number)：2000007306
Application date： Jun. 19, 1998
Publication date： Jan. 11, 2000
Summary：

【要約】【課題】 アルコキシシラン類溶液を主剤とする場合に、他の金属材料を含有する場合であっても、細孔の孔径を均一に形成し、高い特性を有する無機多孔質膜を容易に製造する方法を提供すること。【解決手段】 水及び触媒量の酸を含むアルコキシシラン類溶液を主材としてあるとともに、その溶媒に可溶性の金属塩を前記溶液に添加してあり、かつ、水とアルコキシシラン類とのモル比率(H2O/Si)が4以下であるpH1〜2.5の無機材料組成物を、無機多孔質支持体上に塗布、乾燥して非結晶性塗膜を形成する塗膜形成工程、及び、前記非結晶性塗膜を前記加水分解による結晶化をさせない低温かつ常圧の条件下で加熱処理する加熱工程を行う。

Claim (excerpt)：

水及び触媒量の酸を含むアルコキシシラン類溶液を主材としてあるとともに、その溶媒に可溶性の金属塩を前記溶液に添加してあり、かつ、水とアルコキシシラン類とのモル比率(H2O-Si)が4以下であるpH1〜2.5の無機材料組成物を、無機多孔質支持体上に塗布、乾燥して非結晶性塗膜を形成する塗膜形成工程、及び、前記非結晶性塗膜を前記アルコキシシラン類の加水分解による結晶化をさせない低温かつ常圧の条件下で加熱処理する加熱工程を行う無機多孔質膜の製造方法。

F-Term (7)：

4G042DA01 ,  4G042DB11 ,  4G042DB23 ,  4G042DD02 ,  4G042DD11 ,  4G042DE09 ,  4G042DE14