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J-GLOBAL ID:200903003327707803

ガスセンサ及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 瀧野 秀雄 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1999147763
Publication number (International publication number):2000338073
Application date: May. 27, 1999
Publication date: Dec. 08, 2000
Summary:
【要約】【課題】 製造において拡散工程などの煩雑で高コストの原因となる工程を必要とせず、各層間の剥離のおそれがなく、さらに消費電力が少ない、感度の良いガスセンサを提供する。【解決手段】 薄膜状のセンサ素子主部を基板の空洞上に位置させたガスセンサに関し、該薄膜状のセンサ素子主部がその両面を貫通するすかし部分を有するヒータ部と、該ヒータ部のすかし部分に形成されたガス感応部とからなるガスセンサ。
Claim (excerpt):
薄膜状のセンサ素子主部を基板の空洞上に位置させたガスセンサに関し、該薄膜状のセンサ素子主部がその両面を貫通するすかし部分を有するヒータ部と、該ヒータ部のすかし部分に形成されたガス感応部とからなることを特徴とするガスセンサ。
F-Term (11):
2G046AA02 ,  2G046BA01 ,  2G046BA03 ,  2G046BB02 ,  2G046BE02 ,  2G046DB04 ,  2G046EA02 ,  2G046EA07 ,  2G046EA11 ,  2G046FB02 ,  2G046FC08

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