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J-GLOBAL ID:200903003333125212

キトサンまたはDACの水溶解方法とその水溶液、キトサンまたはDAC水溶液による膜の形成方法と固体表面の被覆方法並びに糸の形成方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 西澤 利夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001366335
Publication number (International publication number):2002241405
Application date: Nov. 30, 2001
Publication date: Aug. 28, 2002
Summary:
【要約】【課題】 新規なキトサン及びDACの水への溶解法及びその溶液を乾燥し、溶媒を除去するのみで、透明かつ耐水性のある安定なキトサン或いはDAC皮覆膜等の作成を可能とする。【解決手段】 キトサン及びDACを水に懸濁させ、炭酸ガスを通気させて溶解する。そして、得られた水溶液で透明かつ耐水性のあるキトサン或いはDAC膜を作成する。
Claim 1:
キトサンまたは部分脱アセチル化したキチン;DACの粉末もしくはゲル状の水分散液に炭酸ガスを通気させることを特徴とするキトサンまたはDACの水溶解方法。
IPC (4):
C08B 37/08 ,  B29C 41/02 ,  D01F 9/00 ,  B29L 7:00
FI (4):
C08B 37/08 A ,  B29C 41/02 ,  D01F 9/00 A ,  B29L 7:00
F-Term (23):
4C090AA10 ,  4C090BA46 ,  4C090BA47 ,  4C090BB36 ,  4C090BB53 ,  4C090BB62 ,  4C090CA41 ,  4C090DA10 ,  4C090DA23 ,  4C090DA27 ,  4C090DA28 ,  4F205AA01 ,  4F205AG01 ,  4F205AH63 ,  4F205GA06 ,  4F205GB01 ,  4F205GB26 ,  4F205GE22 ,  4F205GF24 ,  4L035BB02 ,  4L035BB06 ,  4L035EE20 ,  4L035GG04
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
  • 特開昭64-062302
  • 特開昭51-031788
  • 特許第3618318号

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