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J-GLOBAL ID:200903003345600889
化合物半導体発光素子
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
福田 武通 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997351714
Publication number (International publication number):1999186601
Application date: Dec. 19, 1997
Publication date: Jul. 09, 1999
Summary:
【要約】【課題】 不純物をドーピングしてもp形層の結晶性を損なうことなくp形層の抵抗率を低く抑えることができて電気的損失も低減することができ、したがって、発光素子として構成したときの発光効率を向上させることができるようにする。【解決手段】 この発明は、p形電極を敷設するp形半導体層3を有する化合物半導体発光素子10において、p形半導体層3を、少なくとも準位の深い不純物と浅い不純物との2種類を含む複数の不純物をドーピングして形成した、ことを特徴としている。
Claim (excerpt):
p形電極を敷設するp形半導体層を有する化合物半導体発光素子において、上記p形半導体層を、少なくとも準位の深い不純物と浅い不純物との2種類を含む複数の不純物をドーピングして形成した、ことを特徴とする化合物半導体発光素子。
IPC (2):
FI (2):
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (9)
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p型半導体膜および半導体素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-332199
Applicant:株式会社東芝
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特開平4-168773
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特開平4-247670
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半導体素子とその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-107834
Applicant:三洋電機株式会社
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III族窒化物発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-222848
Applicant:三菱電線工業株式会社
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窒化ガリウム系化合物半導体レーザダイオード
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-092017
Applicant:豊田合成株式会社
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コンタクト抵抗低減層を有する半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-281958
Applicant:三菱化学株式会社
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半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-233179
Applicant:ローム株式会社
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特開昭62-204583
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