Pat
J-GLOBAL ID:200903003357494243
紫外線誘発プロスタグランジンE2産生抑制剤
Inventor:
,
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
平木 祐輔 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001396607
Publication number (International publication number):2003192588
Application date: Dec. 27, 2001
Publication date: Jul. 09, 2003
Summary:
【要約】【課題】 紫外線誘発プロスタグランジンE2(PGE2)産生抑制剤の提供。【解決手段】 下記の一般式(I)で表されるポリアルコキシフラボノイドを含有する紫外線誘発プロスタグランジンE2(PGE2)産生抑制剤。【化1】(式中、R1は水素原子または炭素数1〜6の低級アルキル基を表し、R2、R3およびR4は各々独立に水素原子または炭素数1〜6のアルコキシ基を表し、R5は炭素数1〜6の低級アルキル基を表す。)
Claim (excerpt):
下記の一般式(I)で表されるポリアルコキシフラボノイドを含有する紫外線誘発プロスタグランジンE2産生抑制剤。【化1】(式中、R1は水素原子または炭素数1〜6の低級アルキル基を表し、R2、R3およびR4は各々独立に水素原子または炭素数1〜6のアルコキシ基を表し、R5は炭素数1〜6の低級アルキル基を表す。)
IPC (8):
A61K 31/352
, A61P 17/00
, A61P 17/02
, A61P 17/16
, A61P 29/00
, A61P 35/00
, A61P 43/00 112
, C07D311/30
FI (8):
A61K 31/352
, A61P 17/00
, A61P 17/02
, A61P 17/16
, A61P 29/00
, A61P 35/00
, A61P 43/00 112
, C07D311/30
F-Term (12):
4C062EE56
, 4C086AA01
, 4C086AA02
, 4C086BA08
, 4C086MA01
, 4C086MA04
, 4C086NA14
, 4C086ZA89
, 4C086ZB11
, 4C086ZB21
, 4C086ZB26
, 4C086ZC12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
-
フラボン類の新規利用法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-049370
Applicant:ビーエーエスエフアクチェンゲゼルシャフト
-
化粧料組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-118479
Applicant:日本油脂株式会社
-
美白化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-039744
Applicant:日本油脂株式会社
Article cited by the Patent:
Return to Previous Page