Pat

J-GLOBAL ID：200903003380452469

含フッ素陰イオン界面活性剤

Inventor： 安藤 正明 ,  出山 和仁 ,  友田 英幸 ,  小濱 弘之
Applicant, Patent owner： 株式会社ネオス
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993240745
Publication number (International publication number)：1995060096
Application date： Aug. 31, 1993
Publication date： Mar. 07, 1995
Summary：

【要約】【目的】 繊維、金属、樹脂等の表面改質剤、フッ素系高分子の乳化重合用乳化剤、帯電防止剤、分散剤、等として有用な含フッ素陰イオン界面活性剤、及びその製法を提供する。【構成】 一般式(1):【化1】(式中、Xはアルカリ金属を示す。)で表される含フッ素陰イオン界面活性剤。一般式(2):【化2】(式中、Xは、アルカリ金属を示す)で示すヒドロキシベンゼンスルホン酸2アルカリ塩を非水極性溶媒に溶解、あるいは分散し、次いでヘキサフルオロプロペン三量体を徐々に添加することにより得られる一般式(1)の含フッ素陰イオン界面活性剤の製造方法。

Claim (excerpt)：

一般式(1):【化1】(式中、Xはアルカリ金属を示す。)で表される含フッ素陰イオン界面活性剤。

IPC (7)：

B01F 17/12 ,  C07C303/32 ,  C07C309/42 ,  C08K 5/42 KBU ,  C09K 3/00 ,  C09K 3/16 108 ,  C11D 1/22