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J-GLOBAL ID：200903003415798258

垂直磁気記録媒体及びその製造方法

Inventor：
渡辺 貞幸

About 渡辺 貞幸

, 
酒井 泰志

About 酒井 泰志


Applicant, Patent owner：
富士電機株式会社

About 富士電機株式会社


Agent (1)： 篠部 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003050981
Publication number (International publication number)：2003346334
Application date： Feb. 27, 2003
Publication date： Dec. 05, 2003
Summary：
【要約】【課題】 グラニュラー磁気記録層の粒間の磁気的相互作用を改良し、低ノイズで高密度記録が可能な垂直磁気記録媒体を提供する。【解決手段】 垂直磁気記録媒体は、非磁性基体1上に下地層2と磁気記録層3と保護膜4とが順に形成された構造を有し、その上に液体潤滑剤層5が形成されている。磁気記録層3は、強磁性を有する結晶粒とそれを取り巻く非磁性の粒界を持つ構造を採り、その非磁性粒界が非磁性非金属であるグラニュラー磁気記録層を用いる。磁気記録層3の形成前の下地層2の表面を、O2或いはN2雰囲気中か、若しくは希ガスにO2或いはN2を添加した混合ガス雰囲気中に暴露し、O2或いはN2を非磁性非金属形成のための核として付帯させる。その後、磁気記録層3を形成することにより、初期層から強磁性の結晶粒と非磁性非金属の粒界が形成され、良好な偏析構造をもつ磁気記録層を形成することができる。
Claim (excerpt)：
非磁性基体上に、少なくとも下地層と磁気記録層と保護膜と液体潤滑剤層とが順次積層されてなる垂直磁気記録媒体の製造方法において、前記磁気記録層は、強磁性を有する結晶粒と、該結晶粒を取り巻く酸化物或いは窒化物の非磁性結晶粒界からなり、前記下地層の形成後、基体をO2或いはN2雰囲気中か、若しくは希ガスにO2或いはN2を添加した混合ガス雰囲気中に暴露し、その後に前記磁気記録層を形成することを特徴とする垂直磁気記録媒体の製造方法。
IPC (3)：
G11B 5/84 ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/738
FI (3)：
G11B 5/84 Z ,  G11B 5/65 ,  G11B 5/738
F-Term (16)：
5D006BB06 ,  5D006BB07 ,  5D006CA01 ,  5D006CA06 ,  5D006DA03 ,  5D006DA08 ,  5D006EA03 ,  5D006FA09 ,  5D112AA03 ,  5D112AA05 ,  5D112AA24 ,  5D112BB02 ,  5D112BB05 ,  5D112BB06 ,  5D112FA04 ,  5D112GA05
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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