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J-GLOBAL ID：200903003427175850

ガラス基板洗浄方法

Inventor： 西形 英治
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 井桁 貞一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992044197
Publication number (International publication number)：1993243200
Application date： Mar. 02, 1992
Publication date： Sep. 21, 1993
Summary：

【要約】【目的】 本発明は,ガラス基板の洗浄方法に関し,純水内を上下動してリンスする際にガラス基板上に発生する静電気を抑制し,パターンの放電破壊やゴミの付着を防止することを目的とする。【構成】 基板ホルダ1内に保持したガラス基板2を洗浄槽3内の純水4中で上下動させてリンス洗浄する方法であって,該ガラス基板2の上下動に対して直角方向に磁界をかけ, 該ガラス基板2上に発生する正負の電荷5を,それぞれガラス基板2面の片側に移動させ, 電荷5を接地線6に移動させるように構成する。

Claim (excerpt)：

基板ホルダ(1) 内に保持したガラス基板(2) を洗浄槽(3) 内の純水(4) 中で上下動させてリンス洗浄する方法であって,該ガラス基板(2) の上下動に対して直角方向に磁界をかけ, 該ガラス基板(2)上に発生する正負の電荷(5) をそれぞれ該ガラス基板(2) 面の片側に移動させ,該電荷(5) を接地線(6) に移動させることを特徴とするガラス基板の洗浄方法。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  B08B 3/04 ,  B08B 3/10