Pat
J-GLOBAL ID：200903003429263640
基板の加熱方法および加熱炉
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
樺澤 襄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992336216
Publication number (International publication number)：1994186549
Application date： Dec. 16, 1992
Publication date： Jul. 08, 1994
Summary：
【要約】【目的】 微小なダストがガラス基板の表面に付着することを防止できる加熱炉を提供する。【構成】 気体供給孔25からガラス基板Gの上面に、あらかじめ加熱した気体を供給して、パンチングプレート26とガラス基板Gとの間の空間の気圧をガラス基板搬送機構15が位置する空間より高い気圧にする。気体はフード21の気体供給筒部23から気体供給孔25を介してガラス基板Gの上面に流れ、ガラス基板Gおよび下縁部22の間隙からガラス基板搬送機構15が位置する空間に流れる。ビーム保持機構18または周囲から、微小なダストが飛散しても、ガラス基板G側に流れず排気ポート14から排気する。ガラス基板搬送機構15から発生した微小なダストを、舞い上がってきても流れ出てくる気流により押し戻すため、ガラス基板Gの上部への侵入ができない。微小なダストがガラス基板Gの表面に付着しない。
Claim (excerpt)：
密閉された炉体内で基板を搬送し、この炉体内でこの搬送された基板を加熱する加熱方法において、前記炉体内でこの基板の上面に加熱された気体を供給してこの基板の上面の気圧を周囲より高くした状態で加熱することを特徴とする基板の加熱方法。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
Show all
Return to Previous Page
