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J-GLOBAL ID:200903003454890803
炉温制御装置及び炉温制御方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
小堀 益
, 堤 隆人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2007273913
Publication number (International publication number):2009102685
Application date: Oct. 22, 2007
Publication date: May. 14, 2009
Summary:
【課題】炉温変更に対して高い応答性を得ることができる炉温制御装置及び炉温制御方法を提供すること。【解決手段】炉の雰囲気ガスの循環経路として、昇温用熱交換器4aを備えた昇温用循環経路3aと降温用熱交換器4bを備えた降温用循環経路3bとをそれぞれ独立して設けると共に、昇温用循環経路3aから炉内への雰囲気ガス導入口5aと降温用循環経路3bから炉内への雰囲気ガス導入口5bとをそれぞれ独立して設け、各雰囲気ガス導入口5a,5bの近傍に開閉弁6a,6bを設け、さらに昇温用循環経路3a及び降温用循環経路3bに、雰囲気ガスを雰囲気ガス導入口5a,5bから炉内に導入することなく循環経路内で循環させるためのリターン経路7a,7bを設けた。【選択図】図1
Claim (excerpt):
炉の雰囲気ガスの循環経路として、昇温用熱交換器を備えた昇温用循環経路と降温用熱交換器を備えた降温用循環経路とをそれぞれ独立して設けると共に、昇温用循環経路から炉内への雰囲気ガス導入口と降温用循環経路から炉内への雰囲気ガス導入口とをそれぞれ独立して設け、各雰囲気ガス導入口の近傍に開閉弁を設け、さらに昇温用循環経路及び降温用循環経路に、雰囲気ガスを雰囲気ガス導入口から炉内に導入することなく循環経路内で循環させるためのリターン経路を設けた炉温制御装置。
IPC (3):
C21D 9/56
, C21D 1/26
, C21D 1/34
FI (4):
C21D9/56 101C
, C21D1/26 E
, C21D1/26 G
, C21D1/34 101
F-Term (6):
4K043AA01
, 4K043DA05
, 4K043EA04
, 4K043FA07
, 4K043FA12
, 4K043GA03
Patent cited by the Patent:
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