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J-GLOBAL ID:200903003461127023

高濃度の酸性ガスの製造のためにガスを脱酸する方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 関根 秀太
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995195876
Publication number (International publication number):1996048984
Application date: Jul. 07, 1995
Publication date: Feb. 20, 1996
Summary:
【要約】【目的】 天然ガスから酸性ガスを少なくとも部分的に除去するとともに、少なくとも一種の高濃度の酸性ガスを生成する方法を提供する。【構成】 少なくとも一種の炭化水素及び少なくとも一種の酸性ガスを含有するガスから酸性ガスを少なくとも部分的に分離して、少なくとも一種の高濃度の酸性ガスを生成する。この目的のために、異なる性質を有する極性溶媒を使って少なくとも2つの吸収工程を行う。
Claim (excerpt):
少なくとも部分的に酸性ガスを除去するとともに、少なくとも一種の高濃度の酸性ガスを生成する目的で、少なくとも一種の炭化水素及び少なくとも一種の酸性ガスを含有するガスを処理する方法において、(a) ガスを冷却し、室温以下の温度で少なくとも一種の極性溶媒及び水を含有する溶媒相の第一混合物と接触させ、もって酸性ガスに富み炭化水素を溶液状に含有する溶媒相の第一画分、及び酸性ガス量が少ない気体画分を生成し、(b) 工程(a) から得られた酸性ガスに富む溶媒相の第一画分を減圧及び/又は昇温により再生して、酸性ガスに富み炭化水素を含有する気体画分、及び酸性ガス量が少なく工程(a) にリサイクルすべき溶媒相を生成し、(c) 工程(b) から得られた酸性ガスに富む気体画分を、少なくとも一種の極性溶媒及び水を含有する溶媒相の第二混合物と接触させて、炭化水素に富む気体画分及び酸性ガスに富む溶媒相の第二画分を生成し、(d) 工程(c) から得られた酸性ガスに富む溶媒相の第二画分を、減圧及び/又は昇温により再生して、工程(b) で分離した気体画分より高濃度の酸性ガスを有する気体画分、及び工程(c) にリサイクルすべき溶媒相の第二画分を生成することを特徴とする処理方法。
IPC (6):
C10L 3/10 ,  B01D 19/00 ,  B01D 53/14 102 ,  B01D 53/14 103 ,  B01D 53/40 ,  B01D 53/77
FI (2):
C10L 3/00 B ,  B01D 53/34 118 A
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
  • 吸収によるガス混合物の分離方法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-211331   Applicant:アンスティテュフランセデュペトロール
  • 特表平1-503307
  • 特開平4-065487
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