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J-GLOBAL ID：200903003476232052

光触媒性薄膜の製造方法、および光触媒性部材

Inventor： 高塩 稔 ,  福嶋 哲弥 ,  平岡 純治 ,  道家 隆博
Applicant, Patent owner： 東陶機器株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001172243
Publication number (International publication number)：2002363489
Application date： Jun. 07, 2001
Publication date： Dec. 18, 2002
Summary：

【要約】【課題】親水性、分解活性に優れ、尚且つ耐摩耗性のある光触媒性薄膜【解決手段】ガラス基材表面に光触媒性を呈する二酸化チタン微粒子を主成分として含む二酸化チタン分散溶液と、テトラアルコキシシランとその加水分解縮合物を含み、そのテトラアルコキシシランの加水分解物の重量平均分子量(Mw)が1100以上4000以下であるシリコーンコーティング溶液を混合し、その混合溶液を塗布、乾燥して、光触媒性薄膜を形成する製造方法であり、形成された光触媒性薄膜の膜厚が70nm以上130nm以下となるように形成されたことを特徴とする光触媒性薄膜製造方法及び光触媒性薄膜基材。

Claim (excerpt)：

ガラス基材表面に光触媒性を呈する二酸化チタン微粒子を主成分として含む二酸化チタン分散溶液と、テトラアルコキシシランとその加水分解縮合物を含み、そのテトラアルコキシシランの加水分解物の重量平均分子量(Mw)が1100〜4000であるシリコーンコーティング溶液を混合し、その混合溶液を塗布、乾燥して、形成された光触媒性薄膜であり、且つ、光触媒性薄膜の膜厚が70nm〜130nmとなるように形成されたことを特徴とする光触媒性薄膜製造方法。

IPC (2)：

C09D183/02 ,  C09D 5/00

FI (2)：

C09D183/02 ,  C09D 5/00 Z

F-Term (10)：

4J038DL021 ,  4J038HA216 ,  4J038JC38 ,  4J038KA06 ,  4J038KA20 ,  4J038MA14 ,  4J038NA04 ,  4J038NA06 ,  4J038NA11 ,  4J038PC03