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J-GLOBAL ID：200903003483806870

光導波路作製方法およびその装置

Inventor： 福山 聡
Applicant, Patent owner： 東芝機械株式会社
Agent (1)： 三好 秀和 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995062550
Publication number (International publication number)：1996262250
Application date： Mar. 22, 1995
Publication date： Oct. 11, 1996
Summary：

【要約】【目的】 高速で成膜およびエッチング可能な光導波路作製方法およびその装置を提供する。【構成】 誘導結合プラズマプロセスを用いて基板101に光導波路の成膜及びコア層105のパターニングを行う。また、基板101に印加するバイアス電圧の有無ないし大小の調節により、光導波路を構成するクラッド層113,103とコア層105を同一反応ガスで形成する。これに用いる光導波路作製装置1では、排気装置67で真空状態とされ、ガス供給装置49,51で反応ガスを供給されたチャンバ3の外側に設けられたリング状のアンテナ19を高周波印加して、誘電体窓13を通してチャンバ3内にプラズマ71を発生させる。このプラズマ71がステージ47上に載置されているワーク69上に成膜する。この時、前記ステージ47に電気的に接続されると共に水を流せる配管85がバイアス用の高周波電源を印加すると共に、冷却水を流してステージ47を冷却するものである。

Claim (excerpt)：

光導波路の成膜工程およびコア層のパターニングを誘導結合プラズマプロセスにて行うことを特徴とする光導波路作製方法。

IPC (5)：

G02B 6/13 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (5)：

G02B 6/12 M ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 C ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 B