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J-GLOBAL ID：200903003488083605

フォトレジスト用ノボラック樹脂の製造方法およびポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 梅村 光雄 ,  小林 美貴
Applicant, Patent owner： 信越化学工業株式会社
Agent (1)： 好宮 幹夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996241115
Publication number (International publication number)：1998060067
Application date： Aug. 23, 1996
Publication date： Mar. 03, 1998
Summary：

【要約】 (修正有)【課題】 アルカリ溶解速度が十分に制御され、その結果0.4μm程度のパターンの形成を可能とするフォトレジスト用ノボラック樹脂を開発する。【解決手段】 m-クレゾールと、一般式(I)【化1】(式中、xは1、2または3である。)で示される、両末端にm-クレゾールが結合した多核体の混合物と、ホルムアルデヒドとを、二価金属の有機酸塩の触媒の存在下で付加縮合させてフォトレジスト用ノボラック樹脂を製造する。

Claim (excerpt)：

m-クレゾールと、一般式(I)【化1】(式中、xは1、2または3である。)で示される、両末端にm-クレゾールが結合した多核体の混合物と、ホルムアルデヒドとを、二価金属の有機酸塩の触媒の存在下で付加縮合させる、ことを特徴とするフォトレジスト用ノボラック樹脂の製造方法。

IPC (5)：

C08G 8/08 NBK ,  C23F 1/00 102 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/023 511

FI (5)：

C08G 8/08 NBK ,  C23F 1/00 102 ,  G03F 7/022 ,  G03F 7/023 511 ,  H01L 21/30 502 R