Pat
J-GLOBAL ID：200903003498124199
X線マスク及びそのアライメント方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大岩 増雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996118036
Publication number (International publication number)：1997306806
Application date： May. 13, 1996
Publication date： Nov. 28, 1997
Summary：
【要約】【課題】 マスクウエハのバックエッチ領域外の部分に設けたプリアライメントマークをX線露光装置内で認識できるX線マスクを提供するとともに、X線露光装置に各X線マスクごとのローディングオフセットを記憶させることにより、2回目以降のマスクローディングを容易にし、前記X線マスク22の製造工程を簡略化できるとともにX線露光装置の稼働率を高めることができるアライメント方法を提供することを目的とする。【解決手段】 X線マスクは、X線露光領域部7を含むバックエッチ領域部6が取り除かれたマスクウエハ1と、このマスクウエハ1上に配置されたメンブレン膜2と、マスクウエハ1上部にあるメンブレン膜2上に配置された高反射膜3と、メンブレン膜2上のX線露光領域部7に設けられたマスクパターン4aと、高反射膜3上に設けられたプリアライメントマーク4bとを備えている。
Claim (excerpt)：
X線露光領域部を含むバックエッチ領域部が取り除かれたマスクウエハと、前記マスクウエハ上に配置されたメンブレン膜と、前記マスクウエハ上部にある前記メンブレン膜上に配置された高反射膜と、前記メンブレン膜上の前記X線露光領域部に設けられたマスクパターンと、前記高反射膜上に設けられたプリアライメントマークとを備えたことを特徴とするX線マスク。
IPC (2)：
FI (3)：
H01L 21/30 531 M
, G03F 1/16 A
, H01L 21/30 531 J
