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J-GLOBAL ID：200903003505151393

ネガ型レジスト組成物

Inventor： 高橋 表 ,  安波 昭一郎 ,  白川 浩司
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002281425
Publication number (International publication number)：2004117876
Application date： Sep. 26, 2002
Publication date： Apr. 15, 2004
Summary：

【課題】電子線又はX線の使用に対して孤立性能に優れ、またレジストパターン表面上の異物の少ない優れたネガ型レジスト組成物を提供。【解決手段】(A)アルカリ可溶性ポリマー、(B)酸の作用により架橋する特定の架橋剤及び(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、特定の酸発生剤を含有するネガ型レジスト組成物。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

(A)アルカリ可溶性ポリマー、 (B)一般式(II)〜(IV)で表される化合物、及びアルコキシメチル化メラミン化合物から選ばれる少なくとも一つである、酸により架橋する架橋剤、 及び、 (C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する、下記一般式(I)で表される酸発生剤 を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F7/038 ,  H01L21/027

FI (2)：

G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R

F-Term (17)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (7)

• 水性塩基現像可能なフォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-262200   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-193367   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2001-032855   Applicant：富士写真フイルム株式会社
• 光酸発生剤、化学増幅レジスト組成物、およびそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-347900   Applicant：日本電気株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-028456   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• ネガ型感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-367575   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• 感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-334348   Applicant：ジェイエスアール株式会社