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J-GLOBAL ID：200903003510679908

循環流動層還元装置及びその操業方法

Inventor： 高本 泰 ,  国友 和也
Applicant, Patent owner： 新日本製鐵株式会社
Agent (1)： 茶野木 立夫 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996086222
Publication number (International publication number)：1997272911
Application date： Apr. 09, 1996
Publication date： Oct. 21, 1997
Summary：

【要約】【課題】 粉原料を循環流動層で還元する際に、未還元の粉体が粉成品中に排出されることのないようにし、循環流動層の粉成品の平均の還元率を向上させることを目的とする循環流動層還元装置及びその操業方法を提供する。【解決手段】 一次ダウンカマーを二本以上とし、粉成品を排出する一次ダウンカマーと、粉原料を供給する一次ダウンカマーとを別々とすることにより、一次ダウンカマーに供給された粉原料は、未還元のまま粉成品として排出されることなく、ダウンカマー内で十分昇温されてライザー内でガス還元される。また、粉原料に混合して供給した炭材中の炭素により、ダウンカマー内で直接還元され、さらにライザー内でガス還元されることが可能となる。これにより、未還元で排出される粉原料をなくし、粉成品全体の平均還元率を高くすることが可能となる。

Claim (excerpt)：

ライザーからの排ガス中の粉体を一次サイクロンにて固気分離・捕集し、これを一次サイクロン下部から一次ダウンカマーを通してライザー下部に循環させ、さらに一次サイクロンからの排ガス中の微粉体を二次サイクロンにて固気分離・捕集し、これを二次サイクロン下部から二次ダウンカマーを通して一次ダウンカマーに循環させる形式の、サイクロンを直列に配置する循環流動層還元装置において、一次ダウンカマーを少なくとも二本以上設け、そのうちの少なくとも一本以上を粉成品を排出する一次ダウンカマー、残りの少なくとも一本以上を粉原料を供給する一次ダウンカマーとすることを特徴とする循環流動層還元装置。

IPC (3)：

C21B 13/00 101 ,  B01J 8/24 ,  F27D 17/00 104

FI (3)：

C21B 13/00 101 ,  B01J 8/24 ,  F27D 17/00 104 G