Pat
J-GLOBAL ID:200903003513041041

ポリオレフィン系樹脂組成物及びこれを用いてなる成形体

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 羽鳥 修 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995203382
Publication number (International publication number):1997052984
Application date: Aug. 09, 1995
Publication date: Feb. 25, 1997
Summary:
【要約】【課題】 リサイクルが容易で、簡易な設備で且つ短い成形サイクルで成形でき、生産性に優れ、表面光沢及び表面平滑性の良好な成形体を得ることができるポリオレフィン系樹脂組成物を提供すること。【解決手段】 成分(A):MFRが0.01〜5.0g/10minで且つ密度が0.945g/cm3 以上である高密度ポリエチレン10〜80wt%、成分(B):MFRが0.5〜80g/10minで且つ密度が0.910〜0.945g/cm3 である低密度ポリエチレン10〜70wt%及び成分(C)MFRが0.1〜20g/10minで且つ密度が0.890〜0.920g/cm3 であるポリプロピレン樹脂10〜70wt%を含有してなり、成分(A)のMFR≦成分(C)のMFR≦成分(B)のMFRの関係にあるポリオレフィン系樹脂組成物。
Claim (excerpt):
下記成分(A)10〜80wt%、下記成分(B)10〜70wt%及び下記成分(C)10〜70wt%を含有してなり、該成分(A)のメルトフローレート、下記成分(B)のメルトフローレート及び下記成分(C)のメルトフローレートが、下記関係式?@の関係にあることを特徴とするポリオレフィン系樹脂組成物。成分(A):メルトフローレートが0.01〜5.0g/10minで且つ密度が0.945g/cm3 以上である高密度ポリエチレン。成分(B):メルトフローレートが0.5〜80g/10minで且つ密度が0.910〜0.945g/cm3 である低密度ポリエチレン。成分(C):メルトフローレートが0.1〜20g/10minで且つ密度が0.890〜0.920g/cm3 であるポリプロピレン樹脂。関係式?@;成分(A)のメルトフローレート≦成分(C)のメルトフローレート≦成分(B)のメルトフローレート
IPC (4):
C08L 23/04 LCD ,  B29C 47/00 ,  C08L 23/10 ,  B29K 23:00
FI (3):
C08L 23/04 LCD ,  B29C 47/00 ,  C08L 23/10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
  • 中空成形用樹脂組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-203764   Applicant:チッソ株式会社
Cited by examiner (1)
  • 中空成形用樹脂組成物
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平7-203764   Applicant:チッソ株式会社

Return to Previous Page