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J-GLOBAL ID：200903003516961168
高分子光導波路コア部のリッジ・パターン形成方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
谷 義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996310959
Publication number (International publication number)：1998148729
Application date： Nov. 21, 1996
Publication date： Jun. 02, 1998
Summary：
【要約】【課題】 簡易で量産性に優れ、光部品との接続が容易に行える高分子光導波路コア部のリッジ・パターン形成方法を提供する。【解決手段】 この方法は、高分子光導波路を形成すべき部分に液だめプールを予め形成する工程と、該液だめプールに液状の感光性物質を注入する工程と、液だめプールに注入された液状の感光性物質に対し、所定のリッジ・パターンが形成されたマスクを通して光照射してパターン潜像を形成する工程と、該パターン潜像形成後、感光性物質の未照射部分を溶媒を用いて除去する工程とを有し、さらに、溶媒による除去の工程で感光性物質の残存した部分を光が導波するためのコア部とすることを特徴とする。
Claim (excerpt)：
高分子光導波路のコア部に対応するリッジ・パターンを形成するための方法であって、高分子光導波路を形成すべき部分に液だめプールを予め形成する工程と、該液だめプールに液状の感光性物質を注入する工程と、前記液だめプールに注入された液状の感光性物質に対し、所定のリッジ・パターンが形成されたマスクを通して光照射してパターン潜像を形成する工程と、該パターン潜像形成後、前記感光性物質の未照射部分を溶媒を用いて除去する工程とを有し、さらに、前記溶媒による除去の工程で前記感光性物質の残存した部分を光が導波するためのコア部とすることを特徴とする高分子光導波路コア部のリッジ・パターン形成方法。
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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