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J-GLOBAL ID:200903003520868431

半導体露光装置及び露光方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 島田 義勝 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997366297
Publication number (International publication number):1999195580
Application date: Dec. 25, 1997
Publication date: Jul. 21, 1999
Summary:
【要約】【課題】 球状半導体に最適な光リソグラフィーを行うことができる半導体露光装置及び露光方法の提供と共に、同装置等の技術的思想を平面状の露光対象物に応用した半導体露光装置及び露光方法を提供すること。【解決手段】 第1の半導体露光装置は、光源部1とコリメータレンズ2とこのコリメータレンズ2の焦点に配置された空間フィルターとしてのピンホール3とこのピンホール3を第1焦点に一致させて配置するとともに、球状の露光対象物としての球状半導体4及びその同心円状外側に球状マスク5をそれぞれ第2焦点に配置した回転楕円ミラー6から構成されている。前記光源部1から出射される平行光束は、コリメータレンズ2のレンズ焦点にビームスポットを形成し、ビームスポットはピンホール3によってきれいな光束に整形される。整形された光束は、第1焦点から回転楕円ミラーの反射面60で反射して第2焦点に集光し、球状マスク5の回路パターンが、球状半導体4に焼き付けられる。よって、球状半導体4に対する一括露光を可能にする半導体露光装置を提供することができる。
Claim (excerpt):
平行光線束を生成する光源部と、該光源部からの平行光線束を集束するコリメータレンズと、該コリメータレンズの焦点に配置された空間フィルターと、該空間フィルターを第1焦点に一致させて配置するとともに、第2焦点に球状の露光対象物を配置する回転楕円ミラーと、前記露光対象物と同心円状に配置したマスクからなることを特徴とする半導体露光装置。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/02
FI (4):
H01L 21/30 517 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/02 Z ,  H01L 21/30 513

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