ポジ型レジスト組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：久保山隆 , 中山亨 , 榎本雅之
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002292102
Publication number (International publication number)：2004126336
Application date： Oct. 04, 2002
Publication date： Apr. 22, 2004
Summary：

【課題】F2エキシマレーザーリソグラフィに適した感度や解像度などの各種のレジスト性能が良好であるとともに、特にドライエッチング耐性に優れたポジ型化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】(A)酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂であって、ハロゲン原子含量が40重量%以上であり、該樹脂の重合単位中に、脂環式炭化水素骨格を有し、該脂環式炭化水素骨格が酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる基を少なくとも1つ有し、該脂環式炭化水素骨格の水素原子が少なくとも1つのハロゲン原子で置換されてなる樹脂、(B)酸発生剤並びに(C)下記式(IIa)で示される化合物等を含むポジ型レジスト組成物。(IIa)【選択図】なし

Claim (excerpt)：

(A)それ自体はアルカリ水溶液に不溶又は難溶であるが、酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる樹脂であって、ハロゲン原子含量が40重量%以上であり、該樹脂の重合単位中に、エーテル結合を有してもよい脂環式炭化水素骨格を有し、該脂環式炭化水素骨格が酸の作用でアルカリ水溶液に可溶となる基を少なくとも1つ有し、該脂環式炭化水素骨格の水素原子が少なくとも1つのハロゲン原子で置換されてなる樹脂、(B)酸発生剤並びに(C)下記式(I)で示される重合単位を有する高分子化合物、(IIa)で示される化合物、(IIb)で示される化合物及び(III)で示される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含むポジ型レジスト組成物。

IPC (3)：

G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027

FI (3)：

G03F7/039 601 , G03F7/004 501 , H01L21/30 502R

F-Term (14)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA09 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB41 , 2H025CC20 , 2H025FA17

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

特開平3-039964
化学増幅型ポジ型レジスト組成物及びスルホニウム塩
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-184546 Applicant：住友化学工業株式会社
ポジ型レジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-048880 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

Synthesis of Novel Fluoropolymer for 157nm Photore

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