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J-GLOBAL ID：200903003528064900

ウエハ保持装置

Inventor： 高橋 主人 ,  田村 直行 ,  伊藤 陽一 ,  小川 芳文 ,  七田 弘之 ,  坪根 恒彦
Applicant, Patent owner： 株式会社日立製作所
Agent (1)： 高田 幸彦 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001035360
Publication number (International publication number)：2001223258
Application date： Mar. 18, 1994
Publication date： Aug. 17, 2001
Summary：

【要約】【課題】静電吸着によりウエハを保持する保持装置において、ウエハ処理がウエハ外周部でも均一で、かつ異物の発生が少ない構成とし、ウエハ処理の歩留まりが高いウエハ処理装置を提供する。【解決手段】ウエハ(1)処理面側の接触物を除去し、かつウエハ(1)表面と同じか上の位置となるようにウエハ外周部にサセプタ部材(16)を設けた。さらに、ウエハ(1)裏面とサセプタ(16)間の隙間を適正化した。ウエハ保持装置(17)の上下機構は、カバー付きとし、ベローズ(30)でシールした。また、ウエハ冷却用の冷媒流路(7)形成法を、ロストワックスや拡散接合法とした。

Claim 1：

ウエハ処理装置でウエハを保持するウエハ保持装置において、静電気力を用いて該ウエハを該ウエハ保持装置に保持し、該ウエハ処理表面と同一面かあるいは該ウエハ表面より上側に位置した表面を有する絶縁部材で該ウエハ外周部を構成し、該ウエハ外周部と対向する該絶縁部材面を該ウエハ処理面の法線方向と略平行にしたことを特徴とするウエハ保持装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-309257   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
• ウエハの静電吸着装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-210089   Applicant：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社
• 特開昭58-032410
  

Cited by examiner (2)

• プラズマ処理装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-309257   Applicant：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
• ウエハの静電吸着装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-210089   Applicant：菱電セミコンダクタシステムエンジニアリング株式会社, 三菱電機株式会社