Pat
J-GLOBAL ID：200903003530408625

重合体の製造方法

Inventor：
増子 芳弘

About 増子 芳弘

, 
青柳 龍弘

About 青柳 龍弘


Applicant, Patent owner：
電気化学工業株式会社

About 電気化学工業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998307105
Publication number (International publication number)：2000128923
Application date： Oct. 28, 1998
Publication date： May. 09, 2000
Summary：
【要約】【課題】 遷移金属化合物とラジカル重合開始剤とを用いることにより、共役ジエン単量体からなる分子量分布の狭い単分散性の重合体の製造方法を提供する。【解決手段】 少なくとも1種類の共役ジエン単量体を、ラジカル重合開始剤及び下記の一般式(1)で表わされる遷移金属化合物の存在下で重合することを特徴とする重合体の製造方法。MXmYn (1)(ここで、MはNi、Co、Fe、Cu、Ru、RhおよびPdから選ばれる遷移金属を表わし、XはH、Cl、BrおよびIから選ばれる1種または2種以上を表わし、Yは含リン化合物を表わす。mとnは次の3条件?@〜?Bを満足する整数である。(?@m+nはMが結合あるいは配位し得る総数。?Am≧1。?Bn≧0。))
Claim (excerpt)：
少なくとも1種類の共役ジエン単量体を、ラジカル重合開始剤及び下記の一般式(1)で表わされる遷移金属化合物の存在下で重合することを特徴とする重合体の製造方法。MXmYn (1)(ここで、MはNi、Co、Fe、Cu、Ru、RhおよびPdから選ばれる遷移金属を表わし、XはH、Cl、BrおよびIから選ばれる1種または2種以上を表わし、Yは含リン化合物を表わす。mとnは次の3条件?@〜?Bを満足する整数である。(?@m+nはMが結合あるいは配位し得る総数。?Am≧1。?Bn≧0。))
IPC (5)：
C08F 4/80 ,  C08F 4/04 ,  C08F 4/34 ,  C08F 4/70 ,  C08F136/04
FI (5)：
C08F 4/80 ,  C08F 4/04 ,  C08F 4/34 ,  C08F 4/70 ,  C08F136/04
F-Term (39)：
4J015AA02 ,  4J015AA05 ,  4J015AA06 ,  4J015BA05 ,  4J015BA07 ,  4J015BA08 ,  4J015DA13 ,  4J015DA23 ,  4J028AA01A ,  4J028AB00A ,  4J028AC45A ,  4J028AC46A ,  4J028AC47A ,  4J028AC48A ,  4J028BA00B ,  4J028BA01B ,  4J028BB00B ,  4J028BB01B ,  4J028BC15B ,  4J028CB40C ,  4J028CB70C ,  4J028EB12 ,  4J028EB13 ,  4J028EB14 ,  4J028FA01 ,  4J028FA02 ,  4J028GA06 ,  4J100AS02P ,  4J100AS03P ,  4J100AS06P ,  4J100BA05P ,  4J100BA06P ,  4J100BB01P ,  4J100CA01 ,  4J100DA04 ,  4J100FA03 ,  4J100FA09 ,  4J100FA18 ,  4J100FA19
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM