スパッタリングターゲット及びその製造方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002012549
Publication number (International publication number)：2002294439
Application date： Jan. 22, 2002
Publication date： Oct. 09, 2002
Summary：

【要約】【課題】焼結体の作製時にクラックや割れが発生せず、製造歩留りが高く、かつ大電力でのスパッタを行っても割れが発生しない相変化記録媒体の保護膜形成に有用なスパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。【解決手段】 Zn、S、Si及びOからなる焼結体であって、焼結体内の密度のばらつきを所定値以下とした焼結体、すなわち、焼結体の任意の2点における相対密度の差の絶対値が3%以内である焼結体を用いてスパッタリングターゲットを構成する。また、焼結体の作成において、焼結圧力を段階的に増加させて加圧焼結を行なう。

Claim (excerpt)：

硫化亜鉛及び二酸化ケイ素を主成分とする焼結体からなるスパッタリングターゲットにおいて、前記焼結体の任意の2点における相対密度の差の絶対値が3%以内であることを特徴とするスパッタリングターゲット。

IPC (2)：

C23C 14/34 , G11B 7/26 531

FI (2)：

C23C 14/34 A , G11B 7/26 531

F-Term (11)：

4K029BA46 , 4K029BA51 , 4K029BA64 , 4K029BD12 , 4K029CA05 , 4K029DC05 , 4K029DC09 , 5D121AA04 , 5D121EE03 , 5D121EE09 , 5D121EE11

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

光記録保護膜用スパッタリングターゲット
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-166901 Applicant：東ソー株式会社
相変化型光記録媒体の保護膜形成用スパッタリングターゲット材料およびその製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-187266 Applicant：同和鉱業株式会社
特開昭60-191012

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