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J-GLOBAL ID:200903003577100114

薄膜磁気ヘッド及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 松井 伸一
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994202973
Publication number (International publication number):1996050705
Application date: Aug. 05, 1994
Publication date: Feb. 20, 1996
Summary:
【要約】【目的】 実質的な上部磁極層と下部磁極層の幅を等しくし、磁極層と浮上レールとの相対位置関係を正確に位置決めすることができる薄膜磁気ヘッドを提供すること【構成】 スライダ10の底面に形成する浮上レール11の平面形状をスライダの側辺に対して傾斜させる。また、浮上レールに近接するスライダの前面所定位置には磁気ヘッド素子12を形成する。そしてこの磁気ヘッド素子形成部分を含む浮上レールの下面所定部位に凹部20を設け、磁気ヘッド素子を構成する上部磁極層17及び下部磁極層15の両端を切除して両磁極層が積層方向で一致する同一幅に形成する。係る幅がトラック幅となる。そして、浮上レールと凹部は、フォトリソを用いて同時に形成されるため、各寸法形状も正確になるとともに、相対位置関係も高精度に設定される。
Claim (excerpt):
底面に浮上レールを有するスライダと、前記浮上レールに近接する前記スライダの前面所定位置に形成された薄膜状の磁気ヘッド素子とを備えた薄膜磁気ヘッドにおいて、前記浮上レールの平面形状を、前記スライダの側面に傾斜状のレール部分を含むように所定形状に形成するとともに、前記磁気ヘッド素子形成部分を含む前記浮上レールの下面所定部位に凹部を設け、前記磁気ヘッド素子を構成する上部磁極層及び下部磁極層の両端を切除して両磁極層が積層方向で一致する同一幅に形成されてなることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)

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